靶基距對(duì)射頻磁控濺射法制備氟碳膜的結(jié)構(gòu)與性能影響

編號(hào)：NMJS02436

篇名：靶基距對(duì)射頻磁控濺射法制備氟碳膜的結(jié)構(gòu)與性能影響

作者：劉增機(jī)； 紀(jì)全； 張?jiān)�暉�?夏延致； 王鳳軍；

關(guān)鍵詞：射頻磁控濺射； 靶基距； AFM； XPS； 接觸角；

機(jī)構(gòu)： 青島大學(xué)化工學(xué)院； 青島大學(xué)纖維新材料與現(xiàn)代紡織國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室培育基地；

摘要： 采用射頻磁控濺射法,以聚四氟乙烯(PT-FE)為靶,氬氣為載氣,在再生纖維素基底上制備了氟碳膜。用原子力顯微鏡(AFM)、X射線光電子能譜(XPS)和靜態(tài)接觸角測(cè)試儀對(duì)氟碳膜的表面形貌、表面結(jié)構(gòu)和表面性能進(jìn)行了研究。結(jié)果表明,該法制得的氟碳膜是由納米粒子組成的島狀結(jié)構(gòu),島的表面起伏不平。這種氟碳膜由—CF3、—CF2—、—CF—和—C—4個(gè)組分構(gòu)成,靶基距從30mm增加到80mm時(shí),氟碳膜的F/C從0.551減小到0.427,呈逐漸減小的趨勢(shì)。隨著靶基距的增大,接觸角從107°逐漸減小到75°,減小靶基距有利于提高氟碳膜的疏水性能。