基于羧基化碳納米管修飾電極伏安法同時測定痕量銦和鋁

編號：NMJS02337

篇名：基于羧基化碳納米管修飾電極伏安法同時測定痕量銦和鋁

作者：李俊華； 鄺代治； 馮泳蘭； 屈景年；

關(guān)鍵詞：碳納米管； 化學(xué)修飾電極； 線性掃描伏安法； 銦； 鋁；

機構(gòu)： 衡陽師范學(xué)院化學(xué)與材料科學(xué)系； 功能金屬有機材料湖南省普通高等學(xué)校重點實驗室；

摘要： 基于羧基化多壁碳納米管(c-MWCNT),制備了可同時測定In3+和Al3+的新型碳材料修飾電極。利用循環(huán)伏安法(CV)和交流阻抗法(EIS)對此修飾電極進行了表征,用線性掃描伏安法(LSV)研究了In3+與Al3+共存于修飾電極上的電化學(xué)行為。與裸玻碳電極相比,新型碳材料修飾電極的電化學(xué)活性得到很大提高;In3+與Al3+無需電分離即可在此電極上實現(xiàn)同時被檢測;1.0×10-9～2.5×10-8mol/L In3+和5.0×10-9～5.0×10-8mol/L Al3+與其峰電流差呈良好線性關(guān)系,其相關(guān)系數(shù)分別為0.9943和0.9975;同一個修飾電極連續(xù)測定6次,In3+和Al3+的RSD分別為1.5%和1.7%,說明其穩(wěn)定性較好;用于金屬冶煉廠附近湘江水樣中In3+和Al3+含量的測定,回收率分別在97.0%～102.0%和95.0%～101.8%之間。