用于納米光刻的超分辨縮小成像平板超透鏡研究

編號：NMJS02258

篇名：用于納米光刻的超分辨縮小成像平板超透鏡研究

作者：李恒一； 王長濤； 羅先剛；

關(guān)鍵詞：納米光刻； 超分辨成像； 表面等離子體； 超透鏡；

機構(gòu)： 中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所微細加工光學(xué)技術(shù)國家重點實驗室； 中國科學(xué)院研究生院；

摘要： 本文提出和研究了利用超分辨縮小成像平板超透鏡,在i線光源波長下實現(xiàn)納米尺度光刻方法。為了在超分辨透鏡像面位置獲得高質(zhì)量的光刻圖形,采用超分辨透鏡-光刻膠-反射銀膜的結(jié)構(gòu)方式,解決由于超透鏡磁場偏振傳輸模式帶來的成像光場畸變問題,大大提高了成像質(zhì)量和光場對比度。采用掩模圖形結(jié)構(gòu)預(yù)補償?shù)姆椒?消除超分辨透鏡的倍率畸變像差影響�；�于有限元電磁計算方法,數(shù)值模擬結(jié)果驗證了該方法在i線光源波長下實現(xiàn)納米尺度縮小成像光刻的可能性。在i線(365nm)光源波長下,得到約35nm線寬的高對比成像光場模擬結(jié)果,并分析了結(jié)構(gòu)參數(shù)變化對成像光場帶來的影響。