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            X射線Rietveld方法在納米材料研究領(lǐng)域的應(yīng)用

            編號:NMJS02226

            篇名:X射線Rietveld方法在納米材料研究領(lǐng)域的應(yīng)用

            作者:周玉華; 宋武林; 柯莉; 曾小川; 謝長生;

            關(guān)鍵詞:納米材料; X射線Rietveld; 結(jié)構(gòu)精修; 定量分析; 微結(jié)構(gòu)分析;

            機構(gòu): 華中科技大學材料科學與工程學院模具技術(shù)國家重點實驗室; 華中科技大學分析測試中心;

            摘要: 納米材料由于獨特的微結(jié)構(gòu)和奇異性能成為當今世界范圍內(nèi)研究與開發(fā)的熱點。鑒于Rietveld方法在常規(guī)固體材料方面廣泛而成功的應(yīng)用,將Rietveld方法引入到納米研究領(lǐng)域具有重要的意義。簡要介紹了Rietveld方法的基本原理及其在納米材料的晶體結(jié)構(gòu)精修、物相定量分析和微結(jié)構(gòu)分析等方面的應(yīng)用。

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