Ni-SiC納米復(fù)合鍍層腐蝕行為的研究

編號：NMJS02049

篇名：Ni-SiC納米復(fù)合鍍層腐蝕行為的研究

作者：王平； 程英亮； 張昭；

關(guān)鍵詞： 電沉積； Ni-SiC納米復(fù)合鍍層； 耐腐蝕性能； 電化學(xué)阻抗譜；

機(jī)構(gòu)： 湖南大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院； 浙江大學(xué)玉泉校區(qū)化學(xué)系；

摘要： 通過電化學(xué)阻抗譜測試技術(shù)初步確定制備具有較好耐腐蝕性能鍍層的工藝參數(shù)。利用掃描電子顯微鏡觀察鍍層的表面形貌;借助浸泡實驗、電化學(xué)阻抗譜、極化曲線等方法對比分析了Ni-SiC納米復(fù)合鍍層和純Ni鍍層在0.5 mol/L NaCl溶液和1 mol/L HNO3溶液中的耐腐蝕性能。結(jié)果表明,SiC納米顆粒的加入提高了鍍層的耐腐蝕性能,且鍍層耐腐蝕性能隨鍍層中SiC納米顆粒含量的增加而提高。 更多還原