化學浴沉積法在氧化鋅襯底上制備氧化鋅微/納米棒陣列

編號：NMJS01882

篇名：化學浴沉積法在氧化鋅襯底上制備氧化鋅微/納米棒陣列

作者：張家朝； 王海燕； 韓永剛； 王星雨； 薛進奎； 王新星； 陳瑞燦；

關(guān)鍵詞：氧化鋅； 化學浴沉積； 濃度； pH； 值；

機構(gòu)： 鄭州大學物理工程學院材料物理教育部重點實驗室；

摘要： 用磁控濺射在玻璃上制備一層氧化鋅作為襯底,采用化學浴沉積法在襯底上制備出排列整齊的氧化鋅微/納米棒陣列,并用掃描電子顯微鏡對樣品形貌進行了表征。分析了不同前驅(qū)液濃度、pH值對樣品形貌的影響。分析發(fā)現(xiàn):前驅(qū)物濃度越大,長出的氧化鋅微/納米棒直徑越大;溶液初始pH值對樣品的形貌有很大影響;在合適的pH值環(huán)境下,氧化鋅微/納米棒生長速度明顯快于其他樣品,且對生長條件要求不高,非常適合用于氧化鋅微/納米棒大面積制備,筆者采用此方法制備出形貌均勻的,面積達15cm×15cm的氧化鋅微/納米棒。