雙槽電沉積法制備Cu/Ag納米多層膜制備及研究

編號：NMJS01798

篇名：雙槽電沉積法制備Cu/Ag納米多層膜制備及研究

作者：顧超； 朱宏喜； 任鳳章； 王姍姍； 肖麗麗；

關鍵詞：Cu/Ag多層膜； 雙槽電沉積法； 顯微組織； 顯微硬度；

機構： 河南科技大學材料科學與工程學院； 河南省有色金屬材料科學與加工技術重點實驗室；

摘要： 雙槽電沉積法制備了不同調制波長的Cu/Ag金屬多層膜(Cu膜和Ag膜等厚),用掃描電子顯微鏡觀察了多層膜的層狀結構,并研究了不同調制波長下多層膜的顯微硬度變化。結果表明:雙槽電沉積法制備的Cu/Ag多層膜層狀結構明顯。當調制波長大于100 nm時,顯微硬度隨調制波長減小而增加;當小于100 nm時,硬度隨調制波長減小而降低;調制波長為100 nm時,顯微硬度取得最大值,為150HV。