Fe2+質(zhì)量濃度對(duì)納米晶Ni-Fe合金電沉積層耐蝕性的影響

編號(hào)：NMJS01668

篇名：Fe2+質(zhì)量濃度對(duì)納米晶Ni-Fe合金電沉積層耐蝕性的影響

作者： 于洋； 陳吉； 儲(chǔ)剛； 史艷華；

關(guān)鍵詞：鎳鐵合金； 納米晶； 電沉積； 耐蝕性；

機(jī)構(gòu)： 遼寧石油化工大學(xué)機(jī)械工程學(xué)院石油化工過(guò)程腐蝕與防護(hù)技術(shù)中心； 遼寧石油化工大學(xué)化學(xué)與材料科學(xué)學(xué)院；

摘要： 采用直流電沉積技術(shù)在黃銅基體上制備出低Fe高Ni的納米晶Ni-Fe合金鍍層。研究不同F(xiàn)e2+質(zhì)量濃度(2～12 g/L)對(duì)合金鍍層的表面形貌、鍍層成分、相結(jié)構(gòu)、鍍層顯微硬度和耐蝕性的影響規(guī)律。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,電鍍Ni-Fe合金可獲得納米晶結(jié)構(gòu),當(dāng)Fe2+質(zhì)量濃度為4 g/L時(shí),硬度較高,為658 HV。在質(zhì)量分?jǐn)?shù)為3.5%的NaCl溶液中,Fe2+質(zhì)量濃度為4 g/L時(shí),合金鍍層的耐蝕性最好,自腐蝕電流密度較小,約為0.430μA/cm2,涂層電阻較大,約為143 400Ω,比基體黃銅提高約40倍。