氨硼烷制備的高寬厚比氮化硼納米片及其形成機理

編號：NMJS09163

篇名：氨硼烷制備的高寬厚比氮化硼納米片及其形成機理

作者：宋曲之 王兵 杜貽昂 吳爽 王應德

關鍵詞： 氨硼烷 氮化硼納米片 高寬厚比 熱導率

機構： 國防科技大學空天科學學院新型陶瓷纖維及其復合材料國防科技重點實驗室

摘要： 受限于商業(yè)氮化硼(BN)晶體尺寸及BN獨特的層間相互作用,傳統(tǒng)的剝離法難以實現(xiàn)高寬厚比(>5000)氮化硼納米片(BNNSs)的制備。以氨硼烷為前驅(qū)體,經(jīng)燒結和分離得到了高寬厚比的BNNSs。通過FTIR,TG,TEM,XRD等手段對BNNSs的組成結構及形成機理進行表征。結果表明:當溫度超過80℃時,氨硼烷之間開始交聯(lián)脫氫,氫氣釋放使得在交聯(lián)過程中形成泡沫結構,并最終在1000℃完成無機化,得到含有BNNSs的BN泡沫,其中的膜結構即為BNNSs。所制備的BNNSs為六方晶型結構,厚度約為1.5 nm,寬度約30μm,寬厚比達到20000。將高寬厚比的BNNSs與聚乙烯醇(PVA)復合制備成復合膜,其導熱及力學性能相較于小寬厚比BNNSs所制備的復合膜有顯著提升,充分說明了高寬厚比BNNSs在BN基復合材料領域的應用優(yōu)勢。