銦錫氧(ITO)和氟錫氧(FTO)透明導(dǎo)電薄膜的表征與分析

編號(hào)：CYYJ04293

篇名：銦錫氧(ITO)和氟錫氧(FTO)透明導(dǎo)電薄膜的表征與分析

作者：初學(xué)峰 黃林茂 張祺 謝意含 胡小軍

關(guān)鍵詞： 透明導(dǎo)電氧化物 磁控濺射 退火 表面形貌 X射線光電子能譜 透過(guò)率

機(jī)構(gòu)： 吉林建筑大學(xué)寒地建筑綜合節(jié)能教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室 吉林建筑大學(xué)電氣與計(jì)算機(jī)學(xué)院

摘要： 本文以射頻(RF)磁控濺射方法制備的ITO薄膜和購(gòu)置的ITO及FTO薄膜為研究對(duì)象,通過(guò)紫外可見(jiàn)分光光度計(jì)表征薄膜樣品的透射率,結(jié)果表明ITO和FTO薄膜均展現(xiàn)出良好的光學(xué)透過(guò)率。采用掃描電子顯微鏡(SEM)觀察薄膜樣品的表面形貌,所有薄膜樣品的表面較為均勻。通過(guò)X射線光電子能譜儀(XPS)表征薄膜樣品表面的元素、組成、價(jià)態(tài)和電子態(tài)信息,結(jié)果表明制備方式與退火處理等因素影響了薄膜樣品表面的元素組成與價(jià)態(tài),這些信息與薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能具有一定的關(guān)聯(lián)。上述研究結(jié)果可以為新型透明導(dǎo)電薄膜的設(shè)計(jì)和性能提升提供參考。