Y3+摻雜二氧化硅磨料的合成及其在氧化鋯陶瓷中的化學(xué)機(jī)械拋光行為

編號(hào)：FTJS10464

篇名：Y3+摻雜二氧化硅磨料的合成及其在氧化鋯陶瓷中的化學(xué)機(jī)械拋光行為

作者：代三威 雷紅 付繼芳

關(guān)鍵詞： 氧化鋯陶瓷 化學(xué)機(jī)械拋光 磨料 摻雜二氧化硅 Derjaguin-Landau-Verwey-Overbeek理論

機(jī)構(gòu)： 上海大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院 上海大學(xué)理學(xué)院

摘要： 為提高氧化鋯陶瓷的拋光效率，在二氧化硅表面摻雜 Y3 + wes 以制備改性磨料。 X 射線光電子發(fā)射能譜分析顯示改性磨料中含有 Y 元素，其形式為 Y (OH)3。掃描電子顯微鏡(SEM)和粒度分析結(jié)果表明，復(fù)合材料磨料為球形，粒度均勻，無(wú)聚集和二次顆粒出現(xiàn)。與純硅膠磨料相比，復(fù)合磨料的材料去除率(MRR)提高了約33% 。它還改變了二氧化硅顆粒的 Zet 電位，減少了二氧化硅和鋯陶瓷表面之間的排斥力。這增加了二氧化硅和氧化鋯陶瓷片之間的接觸概率，導(dǎo)致摩擦系數(shù)的增加。