不同拋光參數(shù)對碳化硅-碳纖維復(fù)合材料拋光表面粗糙度影響分析

編號：FTJS10446

篇名：不同拋光參數(shù)對碳化硅-碳纖維復(fù)合材料拋光表面粗糙度影響分析

作者：雷文 陳志剛 付謀楚 朱科軍

關(guān)鍵詞： 碳化硅-碳纖維復(fù)合材料 磁流變膠 拋光參數(shù) 表面粗糙度下降量

機(jī)構(gòu)： 邵陽學(xué)院機(jī)械與能源工程學(xué)院

摘要： 為了研究在磁流變膠拋光中,拋光參數(shù)對碳化硅-碳纖維復(fù)合材料表面加工質(zhì)量的影響規(guī)律,采用磁流變膠拋光方法,對材料表面進(jìn)行拋光。研究磁極分布方式、加工間隙和磁極轉(zhuǎn)速對材料表面形貌和表面粗糙度的影響規(guī)律。結(jié)果表明,磁極分布方式影響待加工表面的磁場分布強(qiáng)度,進(jìn)而影響表面加工質(zhì)量。隨著加工間隙增大,表面粗糙度下降量先增大后減小,在加工間隙為2 mm處得到最優(yōu)表面質(zhì)量。隨著磁極轉(zhuǎn)速增大,表面粗糙度下降量先增大后減小,在磁極轉(zhuǎn)速達(dá)到800 r/min時得到最優(yōu)表面質(zhì)量。