細(xì)團(tuán)聚球形粉體的等離子物理氣相沉積工藝適配性

編號(hào)：NMJS08923

篇名：細(xì)團(tuán)聚球形粉體的等離子物理氣相沉積工藝適配性

作者：何箐 鄒晗 由曉明 張雨生 趙乾

關(guān)鍵詞： 熱障涂層 等離子物理氣相沉積 粉體 沉積行為 工藝適配 工藝窗口

機(jī)構(gòu)： 中國(guó)農(nóng)業(yè)機(jī)械化科學(xué)研究院集團(tuán)有限公司 北京金輪坤天特種機(jī)械有限公司

摘要： 等離子物理氣相沉積(PS-PVD)技術(shù)由于可實(shí)現(xiàn)涂層組織結(jié)構(gòu)柔性調(diào)控及高沉積效率和高隔熱、長(zhǎng)壽命熱障涂層制備而被廣泛關(guān)注,但其粉體制備技術(shù)及工藝適配性研究進(jìn)展較為緩慢。開展PS-PVD粉體材料工藝適配性研究,通過粉體成分及結(jié)構(gòu)的有效控制,設(shè)計(jì)并制得一種采用化學(xué)共沉淀原料的1~20μm的“雙相”結(jié)構(gòu)松散球形團(tuán)聚8YSZ粉體,粉體具有高開孔率和一定自流動(dòng)性。為了提高粉體的工藝適配性,系統(tǒng)研究PS-PVD工藝中不同噴涂距離、噴涂功率和偏離等離子射流中心不同位置的粉體沉積行為,發(fā)現(xiàn)通過粉體成分/結(jié)構(gòu)的有效控制,在低噴涂功率、長(zhǎng)噴涂距離和距離等離子射流中心的不同位置,均可實(shí)現(xiàn)良好的工藝適配效果及涂層氣相沉積效果。通過粉體材料的優(yōu)化控制可以降低氣化過程中的耗能,提高粉體氣相沉積效果和拓寬PS-PVD噴涂沉積適配的工藝窗口,實(shí)現(xiàn)在高能、高速等離子體中的高氣相比例沉積。在PS-PVD用高工藝適配性粉體及其可控制備技術(shù)等方面取得了突破,系統(tǒng)地開展了該工藝用粉體制備及性能調(diào)控、粉體工藝適配性規(guī)律等的研究。