氨分子對(duì)加熱引起的石墨層間分離的影

編號(hào)：CYYJ03704

篇名：氨分子對(duì)加熱引起的石墨層間分離的影

作者：成曉 余真珠 何燕

關(guān)鍵詞： 石墨 氨分子 楔形結(jié)構(gòu) 物理插層

機(jī)構(gòu)： 青島科技大學(xué)機(jī)電工程學(xué)院 青島科技大學(xué)山東省高性能碳材料制備與應(yīng)用工程實(shí)驗(yàn)室

摘要： 本文以含氨分子的氨水(NH3·H2O)、碳酸銨((NH4)2CO3)和碳酸氫銨(NH4HCO3)為插層劑,通過(guò)攪拌、超聲、外熱激發(fā)等方式將其插入石墨夾層中。利用氨分子的“楔形結(jié)構(gòu)”實(shí)現(xiàn)插層劑的物理插層。研究了三種插層劑對(duì)加熱引起的石墨層間分離的影響。結(jié)果表明,當(dāng)使用NH3·H2O作為插層劑時(shí),分離效果最好。此外,FT-IR結(jié)果表明沒(méi)有形成C=N或CN鍵，這意味著含有氨分子的插層劑沒(méi)有與石墨發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，它們是物理插入到層間的。