氧化石墨烯基表面印跡材料的制備及對鎘離子吸附性能研究

編號：FTJS10078

篇名：氧化石墨烯基表面印跡材料的制備及對鎘離子吸附性能研究

作者：吳新華 劉久逢 肖潔 劉軍

關(guān)鍵詞： 氧化石墨烯 甲基丙烯酸 表面印跡 吸附

機(jī)構(gòu)： 湖南化工職業(yè)技術(shù)學(xué)院

摘要： 以γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(KH570)改性后的氧化石墨烯(GO)為載體(FGO),甲基丙烯酸(MA)為功能單體,鎘離子(Cd2+)為模板,偶氮二異丁腈(AIBN)為引發(fā)劑,制備了FGO與MA表面印跡Cd2+的復(fù)合材料(FGO/MAIIP)和非表面印跡Cd2+的復(fù)合材料(FGO/MANIP)。采用紅外光譜(IR)和X射線光電子能譜(XPS)對印跡FGO/MAIIP、非印跡FGO/MANIP復(fù)合材料進(jìn)行表征,考察了其對Cd2+的吸附性能。結(jié)果顯示:KH570與MA成功接枝到GO表面;發(fā)現(xiàn)當(dāng)吸附劑FGO/MAIIP用量為0.4 g/L,pH=5,溫度25℃,吸附時(shí)間為10 min條件下,FGO/MAIIP對Cd2+的吸附量達(dá)到156 mg/g,對Zn2+的選擇系數(shù)達(dá)到8.34,相對分離比達(dá)到10.8。