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            高端電子制程中鈷化學機械拋光劑的研究進展(Ⅱ)──配位劑、抑制劑、磨料及其他
            

            編號：FTJS09917
            

            篇名：高端電子制程中鈷化學機械拋光劑的研究進展(Ⅱ)──配位劑、抑制劑、磨料及其他
            

            作者：段欣雨 萬傳云 吳兆鍵 張玫姣 倪哲易
            

            關(guān)鍵詞： 鈷 化學機械拋光 拋光液 配位劑 抑制劑 磨料 綜述
            

            機構(gòu)： 上海應(yīng)用技術(shù)大學化學與環(huán)境工程學院
            

            摘要： 綜述了Co作為高密度集成路電子制程的阻擋層及互連材料時,化學機械拋光液中常用配位劑、抑制劑、磨料及其他成分的研究進展和作用機制,展望了Co化學機械拋光液的發(fā)展。
            



            

            

            

            


            

            

            

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