電沉積法制備鉬涂層的研究進(jìn)展

編號(hào)：FTJS09911

篇名：電沉積法制備鉬涂層的研究進(jìn)展

作者：吳向陽 白書欣 王震 朱利安 葉益聰 李順 唐宇

關(guān)鍵詞： 鉬涂層 電沉積 熔鹽 水溶液 支持電解質(zhì) 鉬酸鹽 研究進(jìn)展

機(jī)構(gòu)： 國(guó)防科技大學(xué)空天科學(xué)學(xué)院

摘要： 鉬涂層具有高溫強(qiáng)度高、耐腐蝕性好與抗輻照能力強(qiáng)等優(yōu)異的理化性能,在冶金、航空航天和核工業(yè)等領(lǐng)域具有良好的應(yīng)用前景。本文梳理了鉬涂層的主要制備方法,包括熱噴涂、物理氣相沉積與電沉積等,比較了不同制備方法的優(yōu)缺點(diǎn)。著重介紹了熔鹽和水溶液電沉積鉬涂層的研究現(xiàn)狀。對(duì)比了活性鹽、支持電解質(zhì)和添加劑對(duì)熔鹽電沉積工藝及鉬涂層質(zhì)量的影響。目前,鉬酸鹽-氟化物-氧化物熔鹽體系制備的鉬涂層綜合性能最好。水溶液電沉積的制備溫度低,適用性廣,但面臨析氫難以抑制和MoO42-對(duì)pH值敏感等問題,導(dǎo)致鉬涂層與界面結(jié)合弱。