物理氣相沉積制備高熵氮化物涂層的進展

編號：FTJS09669

篇名：物理氣相沉積制備高熵氮化物涂層的進展

作者：程馳 郭朝乾 李海慶 李劍微 曲帥杰 張程 林松盛

關鍵詞： 高熵氮化物涂層 物理氣相沉積 磁控濺射 電弧離子鍍 力學性能 綜述

機構： 廣東工業(yè)大學機電工程學院 廣東省科學院新材料研究所

摘要： 從體系和沉積方法入手,分析了強氮化金屬元素體系、弱氮化金屬元素體系及含非金屬元素體系在結構上的特性和共性給高熵氮化物涂層性能帶來的影響,闡述磁控濺射和電弧離子鍍膜技術沉積涂層的表面形貌、微觀結構及性能方面的差異性,并分別總結這些制備技術的優(yōu)缺點。最后對高熵氮化物涂層體系在結構成分設計和沉積方法兩方面未來的研究方向進行了展望。