ZnFe2O4/NiAl/RGO復(fù)合材料的制備及其光催化降解抗生素性能

編號(hào)：FTJS09529

篇名：ZnFe2O4/NiAl/RGO復(fù)合材料的制備及其光催化降解抗生素性能

作者：趙宜濤 高志鋒 羅靜 錢惺悅 何光裕 陳群 孟啟 陳海群

關(guān)鍵詞： 磁性分離 石墨烯 層狀雙金屬氫氧化物 光催化降解 環(huán)丙沙星

機(jī)構(gòu)： 常州大學(xué) 常州紡織服裝職業(yè)技術(shù)學(xué)院

摘要： 通過(guò)簡(jiǎn)單的溶劑熱法制備了可磁分離的石墨烯基鐵酸鋅/鎳鋁層狀雙氫氧化物(ZnFe2O4/NiAl/RGO)光催化劑,實(shí)現(xiàn)了ZnFe2O4/NiAl/RGO納米復(fù)合物的可控生長(zhǎng)與氧化石墨烯(GO)的還原同步進(jìn)行,并將所制備的催化劑用于環(huán)丙沙星(CIP)的催化降解。采用X射線衍射(XRD)、傅立葉變換紅外光譜(FTIR)、紫外可見(jiàn)漫反射光譜(UV-Vis)、拉曼光譜(Raman)和透射電子顯微鏡(TEM)對(duì)光催化劑復(fù)合物的組成與形貌進(jìn)行了分析。結(jié)果表明:ZnFe2O4/NiAl顆粒成功負(fù)載在石墨烯表面,NiAl層狀雙金屬氫氧化物的復(fù)合可有效增強(qiáng)ZnFe2O4在可見(jiàn)光范圍的響應(yīng),還原氧化石墨烯(RGO)可抑制ZnFe2O4/NiAl異質(zhì)結(jié)的團(tuán)聚,提高光催化性能。在模擬可見(jiàn)光照射下CIP的光降解效率約為96.2%,準(zhǔn)一級(jí)動(dòng)力學(xué)常數(shù)分別是ZnFe2O4/NiAl和ZnFe2O4的3.6倍和10.1倍,異質(zhì)結(jié)的構(gòu)建和RGO的負(fù)載可有效抑制ZnFe2O4的團(tuán)聚,增加活性位點(diǎn)數(shù)量,提高光生電荷的分離和傳輸效率,延長(zhǎng)光生在載流子壽命,從而有效增強(qiáng)ZnFe2O4的光催化活性。