MFI沸石納米片及b軸取向MFI沸石薄膜的制備

編號：NMJS08442

篇名：MFI沸石納米片及b軸取向MFI沸石薄膜的制備

作者：宋文森 Hammad Saulat 顏韜 呂金印 楊建華 魯金明 張艷

關鍵詞： 二維材料 MFI沸石納米片 b軸取向MFI沸石膜

機構(gòu)： 大連理工大學化工學院

摘要： 我們通過自下而上(bottom-up)的方法制備了高寬深比、高結(jié)晶度的b軸方向上超薄的MFI沸石納米片,為制備b軸取向MFI沸石薄膜提供了基礎。采用滑動涂覆法(slip coating method)在玻璃片載體上制備了厚度約為100 nm的b軸取向MFI納米片晶種層。采用無模板劑二次生長法,抑制晶種層面外孿晶生長,實現(xiàn)了晶種層的面內(nèi)外延生長。在合成體系的nSiO2∶nNa2O∶nC2H5OH∶nH2O=1∶0.03∶1.3∶0.89、晶化時間48 h、晶化溫度180℃時,制備了厚度約為200 nm的連續(xù)致密的b軸取向MFI沸石膜,與基于四丙基氫氧化銨(TPAOH)的常規(guī)合成溶液水熱二次生長制備的MFI沸石膜相比,厚度降低了90%,并且保持了晶種層的b軸取向性。