熱處理調(diào)控氧化石墨烯薄膜層間距與離子篩分

編號(hào)：NMJS08174

篇名：熱處理調(diào)控氧化石墨烯薄膜層間距與離子篩分

作者：林玲鑫 劉暢 馬鵬飛 曹留烜

關(guān)鍵詞： 氧化石墨烯薄膜 層間距 熱處理 離子滲透

機(jī)構(gòu)： 廈門大學(xué)能源學(xué)院

摘要： 采用熱處理方法,通過改變熱處理時(shí)間和溫度來調(diào)控氧化石墨烯(GO)薄膜的層間距,并考察了Cs+、K+、Na+、Li+、Sr2+、Mg2+和Al3+離子在不同層間距的GO薄膜中的滲透性.結(jié)果發(fā)現(xiàn):熱處理后得到的GO薄膜在濕潤(rùn)狀態(tài)下的層間距范圍為0.57~1.31 nm,當(dāng)薄膜層間距在0.55 nm左右時(shí),水分子很難在薄膜中輸運(yùn);此外,在不同層間距的GO薄膜中離子滲透性除了與離子水合直徑有關(guān)之外,還與離子所帶電荷以及離子脫水作用有關(guān).該方法實(shí)現(xiàn)了Li+/Mg2+和Na+/Sr2+的分離,為離子的精確篩分、促進(jìn)如鹽湖提鋰以及核廢液處理等提供了參考.