無(wú)氫硅烷常壓化學(xué)氣相沉積SiOx薄膜在晶體硅太陽(yáng)能電池制造中的應(yīng)用

編號(hào)：CYYJ01725

篇名：無(wú)氫硅烷常壓化學(xué)氣相沉積SiOx薄膜在晶體硅太陽(yáng)能電池制造中的應(yīng)用

作者：趙毅

關(guān)鍵詞： 無(wú)氫硅烷 SIOX薄膜 晶體硅太陽(yáng)能電池

機(jī)構(gòu)： 山西興新安全生產(chǎn)技術(shù)服務(wù)有限公司

摘要： 提出SiOx薄膜沉積在成本效益高的實(shí)驗(yàn)室規(guī)模三維打印常壓化學(xué)氣相沉積裝置,研究了鍍層的完整性、與各種表面的一致性以及處理后的回彈性,并討論了常壓化學(xué)氣相沉積(APCVD)法制備的薄膜。研究表明,在不同的應(yīng)用中,常壓化學(xué)氣相沉積法制備的薄膜在鈍化發(fā)射體的正面和背面太陽(yáng)能電池上起到保護(hù)寄生電鍍的作用。