電子束蒸發(fā)制備TiO2/云母薄膜及其光學(xué)和光催化性能研究

編號(hào)：NMJS08084

篇名：電子束蒸發(fā)制備TiO2/云母薄膜及其光學(xué)和光催化性能研究

作者：阿不都哈比爾•木太里甫 買買提熱夏提•買買提 王淑英 阿卜杜外力•米吉提 阿不都熱蘇力•阿不都熱西提

關(guān)鍵詞： 電子束蒸發(fā)法 TiO2薄膜 光催化性能

機(jī)構(gòu)： 新疆大學(xué)物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院

摘要： 本文研究了退火溫度對(duì)TiO2/云母薄膜的表面形貌,晶體結(jié)構(gòu)和光學(xué)性質(zhì)的影響和應(yīng)力對(duì)光催化效率的影響。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,隨著退火溫度的升高,晶粒尺寸變大,薄膜的帶隙能變小。對(duì)比TiO2/云母薄膜受壓力影響和自然狀態(tài)下的光催化降解實(shí)驗(yàn):沒(méi)有受壓力影響時(shí),在600℃,650℃和700℃溫度下退火薄膜的降解率分別為8.56%,5.78%和2.39%;受壓力影響后,在600℃,650℃和700℃溫度下退火薄膜的降解率分別為8.79%,6.89%和3.28%。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,受壓力影響的樣品降解率較大于自然狀態(tài)下的樣品降解率,退火溫度650℃下受壓力影響的樣品降解率的提升程度大于600℃和700℃下受壓力影響的樣品降解率的提升程度,這說(shuō)明應(yīng)力對(duì)薄膜光催化降解率的提高有一定的促進(jìn)作用。