氧化鋁陶瓷的精密拋光性能研究

編號(hào)：CYYJ01735

篇名：氧化鋁陶瓷的精密拋光性能研究

作者：王衛(wèi)芳 陸寶山 關(guān)集俱

關(guān)鍵詞： 氧化鋁陶瓷 精密拋光 表面粗糙度 碳化硅

機(jī)構(gòu)： 蘇州工業(yè)職業(yè)技術(shù)學(xué)院

摘要： 為考察氧化鋁陶瓷的精密拋光性能,將氧化鋁陶瓷試片置于陶瓷工作環(huán)與研磨盤(pán)間進(jìn)行研磨試驗(yàn)。用120目砂紙初磨試樣,使試片原始表面粗糙度為1.49μm;使用碳化硅研磨液拋光,拋光過(guò)程中改變研磨液的濃度、粒徑、載質(zhì)量、轉(zhuǎn)速及時(shí)間,并觀察不同參數(shù)下氧化鋁陶瓷試片的拋光效果。試驗(yàn)結(jié)果表明:采用粒徑2μm的碳化硅磨粒,在軸向載質(zhì)量為9 kg、磨盤(pán)轉(zhuǎn)速為90 r/min、研磨液濃度為35%的工藝條件下連續(xù)研磨50 min,可使氧化鋁陶瓷的表面粗糙度從初始的1.49μm迅速下降至0.22μm,表面質(zhì)量改善率達(dá)到85%。在SEM電子顯微鏡及3D表面輪廓儀下觀察,其試片表面由原先凹凸不平的粗糙表面變成平坦如鏡的光滑表面,驗(yàn)證了氧化鋁陶瓷材料良好的精密拋光加工性能。