電感耦合等離子體發(fā)射光譜(ICP-OES)法測定鎳基/鈷基高溫合金中硼磷硅

編號：NMJS07884

篇名：電感耦合等離子體發(fā)射光譜(ICP-OES)法測定鎳基/鈷基高溫合金中硼磷硅

作者：王丹 王春浩 李輝

關(guān)鍵詞： 電感耦合等離子體發(fā)射光譜(ICP-OES) 鎳基/鈷基高溫合金 硼 磷 硅

機構(gòu)： 中國科學(xué)院金屬研究所

摘要： 采用一定比例的混合酸溶解樣品,利用基體匹配配制一系列標準溶液消除基體的影響,以及軸向觀測噴嘴吹掃技術(shù)來提高待測元素的靈敏度,使用電感耦合等離子體發(fā)射光譜(ICP-OES)法測定鎳基/鈷基高溫合金中硼磷硅。各元素選的分析線依次為B 182.577 nm、P 178.222 nm、Si 185.005 nm。檢測范圍分別是:B 0.001%~3.0%,P 0.003%~0.20%,Si 0.005%~3.0%,檢出限范圍為0.00005%~0.0004%,線性相關(guān)系數(shù)>0.9995。加標回收率為90.0%~105%,精密度RSD<2.0%。方法操作簡單快速,結(jié)果令人滿意。