共晶鋁硅合金恒流微弧氧化成膜工藝優(yōu)化

編號：FTJS08204

篇名：共晶鋁硅合金恒流微弧氧化成膜工藝優(yōu)化

作者：李康 祝聞 易愛華 廖忠淼 李文芳 陳肯 葉韞 洪楚章 楊焱

關鍵詞： 共晶鋁硅合金 微弧氧化 正交優(yōu)化 耐蝕性 沉積速率 能耗

機構： 東莞理工學院材料科學與工程學院

摘要： 采用恒流氧化模式對二元共晶Al-Si合金進行微弧氧化(MAO)處理。在堿性電解液體系中,以Na_(2)SiO_(3)和C6H12N4(六次甲基四胺)質量濃度、電流密度、脈沖頻率和占空比為優(yōu)化對象,以膜層的耐腐蝕性能、生長速率及成膜的單位能耗同時作為評價指標,通過正交試驗得到以下最優(yōu)成膜工藝:電解液由12 g/L Na_(2)SiO_(3)、2 g/L NaOH和5 g/LC_(6)H_(12)N_(4)組成,正、負向電流密度分別為10 A/dm^(2)和4 A/dm^(2),脈沖頻率400 Hz、占空比25%,單個周期的正負脈沖數(shù)之比為1。該工藝顯著降低了Si相對共晶鋁硅合金上MAO的不利影響。