鈦合金平面磁粒研磨軌跡的均勻性實(shí)驗(yàn)研究

編號(hào)：NMJS07832

篇名：鈦合金平面磁粒研磨軌跡的均勻性實(shí)驗(yàn)研究

作者：陳宇輝 韓冰 齊琦 趙楊 崔維啟

關(guān)鍵詞： 磁力研磨 運(yùn)動(dòng)軌跡 表面粗糙度 平面均勻性

機(jī)構(gòu)： 遼寧科技大學(xué)機(jī)械工程與自動(dòng)化學(xué)院

摘要： 為了獲得更好的研磨加工質(zhì)量和高效、高均勻度的加工效果,采用磁力研磨法,利用ADAMS模擬單顆磨粒運(yùn)動(dòng)軌跡,并運(yùn)用數(shù)值計(jì)算對(duì)運(yùn)動(dòng)軌跡的均勻性作出評(píng)判。通過(guò)搭建實(shí)驗(yàn)平臺(tái),在不同條件下,對(duì)鈦合金平面進(jìn)行研磨拋光,獲取其表面粗糙度的變化與加工時(shí)間的關(guān)系,并在加工區(qū)域取3點(diǎn)測(cè)量其表面粗糙度,探討研磨軌跡的均勻性對(duì)加工平面粗糙度的影響。