KH-550改性納米二氧化鈦對芳綸納米薄膜抗紫外及力學(xué)性能的影響

編號：CYYJ02226

篇名：KH-550改性納米二氧化鈦對芳綸納米薄膜抗紫外及力學(xué)性能的影響

作者：王丹妮 聶景怡 趙永生 司聯(lián)蒙 駱志榮 陸趙情

關(guān)鍵詞： 對位芳綸纖維 芳綸納米纖維 納米TiO_2 抗紫外性能 力學(xué)性能

機構(gòu)： 陜西科技大學(xué)輕工科學(xué)與工程學(xué)院陜西省造紙技術(shù)及特種紙品開發(fā)重點實驗室輕化工程國家級實驗教學(xué)示范中心中國輕工業(yè)紙基功能材料重點實驗室 廣西清潔化制漿造紙與污染控制重點實驗室廣西大學(xué)輕工與食品工程學(xué)院 浙

摘要： 通過二甲基亞砜/氫氧化鉀(DMSO/KOH)體系溶解宏觀對位芳綸纖維(AF)制備芳綸納米纖維(ANF),研究KH-550改性后的納米TiO_2對芳綸納米薄膜抗紫外及力學(xué)性能的影響。利用掃描電鏡、傅里葉變換紅外光譜儀、熱重分析儀、拉力試驗機、耐黃變試驗機等儀器對ANF薄膜及添加改性納米TiO_2的復(fù)合薄膜的表面形貌、化學(xué)組分、耐熱性能、力學(xué)性能和抗紫外性能等進(jìn)行表征。結(jié)果表明,當(dāng)納米粒子的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為4%時,復(fù)合薄膜的力學(xué)性能達(dá)到最高,其拉伸強度為139.83 MPa,相比ANF薄膜提高了24.23%;此外,經(jīng)紫外光照射后,復(fù)合薄膜(4%)的拉伸強度為149.92 MPa,相比照射前提高了7.22%。研究表明,添加改性納米TiO_2后,該復(fù)合薄膜的抗紫外及力學(xué)性能都得到了較大改善。