聚乙烯醇改性對原子層沉積氧化鋁復(fù)合隔膜的影響

編號：NMJS07572

篇名：聚乙烯醇改性對原子層沉積氧化鋁復(fù)合隔膜的影響

作者：于文匯 劉彥峰 王韞宇 李昌烽

關(guān)鍵詞： 聚乙烯膜 原子層沉積 表面改性 聚乙烯醇

機構(gòu)： 江蘇大學能源與動力工程學院 廈門韞茂科技有限公司

摘要： 原子層沉積技術(shù)(ALD)是一種具有表面自限性反應(yīng)的薄膜生長技術(shù),可以精準控制薄膜的生長。本文研究了ALD技術(shù)包覆聚烯烴隔膜,制作納米氧化鋁聚烯烴復(fù)合隔膜。聚烯烴膜表面無ALD氧化鋁反應(yīng)基團,造成ALD氧化鋁生長成核慢,前期反應(yīng)效率低,最終生長的氧化鋁多形成團簇而非完整覆蓋的薄膜。為了增強ALD氧化鋁包覆聚乙烯膜(PE)的全覆蓋薄膜生長,將PE膜進行了聚乙烯醇(PVA)表面改性處理,然后進行ALD Al2O3生長。通過掃描電鏡、紅外光譜、電感耦合發(fā)射光譜儀等技術(shù)手段系統(tǒng)分析了PVA表面改性對ALD Al2O3包覆PE膜性能指標的影響。結(jié)果表明,PVA改性可以簡單有效地在PE膜上增加羥基(-OH)作為ALD反應(yīng)位點。處理后的PE膜進行ALD Al2O3生長,前驅(qū)體進入反應(yīng)腔室后更易與表面羥基進行反應(yīng),提高表面生長效率,纖維上均勻包覆氧化鋁,無島狀生長的Al2O3團簇。同時PVA改性可以增強復(fù)合膜的耐熱收縮性能,減少厚度增加,減輕機械結(jié)構(gòu)的損壞。