基于化學氣相沉積技術(shù)的粉體石墨烯的制備及能源領(lǐng)域應(yīng)用

編號：NMJS07309

篇名：基于化學氣相沉積技術(shù)的粉體石墨烯的制備及能源領(lǐng)域應(yīng)用

作者：慈海娜 孫靖宇

關(guān)鍵詞： 化學氣相沉積 直接生長 粉體石墨烯 能源應(yīng)用

機構(gòu)： 蘇州大學能源學院

摘要： 化學氣相沉積技術(shù)(chemical vapor deposition,CVD)因其產(chǎn)物設(shè)計性強、反應(yīng)途徑靈活、層數(shù)均勻可控、襯底種類多樣、批量化高品質(zhì)制備等特點而廣受關(guān)注.本文以CVD制備石墨烯為出發(fā)點,歸納利用模板法和非模板法合成具有特定形貌的高品質(zhì)粉體石墨烯材料,其具有高電導率、大比表面積和良好的分散性.進一步地,基于CVD方法合成的粉體石墨烯,對其在能量存儲領(lǐng)域的應(yīng)用展開闡述.CVD技術(shù)所制備的粉體石墨烯在儲能應(yīng)用領(lǐng)域中展現(xiàn)出的巨大潛力,使其有望成為助力高能量長循環(huán)儲能器件的理想材料.