銅箔表面化學(xué)刻蝕預(yù)處理對CVD法制備石墨烯的影響

編號：NMJS07298

篇名：銅箔表面化學(xué)刻蝕預(yù)處理對CVD法制備石墨烯的影響

作者：劉湘祁 尹建成 林正得

關(guān)鍵詞： 化學(xué)氣相沉積法 石墨烯 銅箔 預(yù)處理

機構(gòu)： 昆明理工大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院 中國科學(xué)院寧波材料技術(shù)與工程研究所

摘要： 銅箔上的雜質(zhì)在化學(xué)氣相沉積法(CVD)制備石墨烯的過程中會形成氧化物顆粒,導(dǎo)致所制得的石墨烯質(zhì)量降低。為解決這一問題,可以在CVD生長石墨烯之前對銅箔表面進行預(yù)處理來去除銅箔表面雜質(zhì)并降低銅箔粗糙度。本研究使用過硫酸銨溶液和稀醋酸溶液分別對銅箔表面進行輕微刻蝕,以此作為預(yù)處理手段,研究其對CVD生長制備石墨烯的影響,并對銅箔和石墨烯使用拉曼光譜和霍爾效應(yīng)測試等方法進行表征。研究發(fā)現(xiàn)這一化學(xué)預(yù)處理可以有效去除銅箔表面雜質(zhì),從而使制備得到的石墨烯電學(xué)性能得到改善,質(zhì)量顯著提高。