激光功率密度對相同曝光量下氧化石墨烯還原的影響

編號：NMJS07224

篇名：激光功率密度對相同曝光量下氧化石墨烯還原的影響

作者：謝磊 雷小華 譚小剛 劉顯明 鄧益俊 陳偉民

關鍵詞： 碳納米材料 激光功率密度 光照還原 氧化石墨烯 透過率 電阻率

機構： 重慶大學光電工程學院光電技術及系統(tǒng)教育部重點實驗室

摘要： 采用488nm連續(xù)激光在相同曝光量條件下對氧化石墨烯樣品進行光照還原實驗,并通過透射率和電阻率來表征還原氧化石墨烯的性質.結果表明:在還原過程中,通過透過率和電阻率表征的還原程度呈現(xiàn)相同的變化趨勢.此外,還原過程分為兩個步驟:達到相對穩(wěn)定狀態(tài)之前和達到相對穩(wěn)定狀態(tài).在達到相對穩(wěn)定狀態(tài)之前,激光功率密度越低,樣品的還原程度越高;但當達到相對穩(wěn)定的狀態(tài)后,激光功率密度越高,樣品的還原程度越高.基于rGO中含氧官能團的變化,通過光子穿透能力和光對rGO的帶隙調制作用對這一現(xiàn)象進行了分析.