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            電流密度對(duì)電沉積銀石墨復(fù)合鍍層耐蝕和耐磨性能的影響

            編號(hào):FTJS07095

            篇名:電流密度對(duì)電沉積銀石墨復(fù)合鍍層耐蝕和耐磨性能的影響

            作者:葉志國(guó) 何慶慶 稂耘 陳宜斌 劉磊 陳川 馬光

            關(guān)鍵詞: 高壓開(kāi)關(guān) 電流密度 銀石墨復(fù)合鍍層 耐蝕性 耐磨性

            機(jī)構(gòu): 南昌空大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院 國(guó)網(wǎng)溫州供電公司 國(guó)網(wǎng)智能電網(wǎng)研究院

            摘要: 使用電沉積方法在銅基表面制備了銀石墨復(fù)合鍍層,研究了沉積電流密度對(duì)銀石墨復(fù)合鍍層耐蝕和耐磨性能的影響。研究表明,鍍層的石墨面積分?jǐn)?shù)隨著沉積電流密度的上升而增大;沉積電流密度對(duì)自腐蝕電位的影響不大,沉積電流密度的增加使得自腐蝕電流密度增大;在0.1-0.5A/dm^2范圍內(nèi),隨著電流密度的增加,復(fù)合鍍層的平均摩擦系數(shù)減小,磨損率先減小后增大。當(dāng)沉積電流密度為0.3A/dm~2、攪拌速度為420r/min時(shí),復(fù)合鍍層的磨損率最小,為8.13×10^-14 m^-3/N·m。該條件下制備的觸頭觸指分合10 000次后,在觸頭的面狀低副摩擦中,其鍍層厚度遷移量小于2μm;在觸指的線狀高副摩擦中,其鍍層磨損量小于10μm。

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