低溫氧等離子體處理對(duì)單層石墨烯微觀結(jié)構(gòu)影響的研究

編號(hào)：NMJS06786

篇名：低溫氧等離子體處理對(duì)單層石墨烯微觀結(jié)構(gòu)影響的研究

作者：鄧海君 王權(quán)

關(guān)鍵詞： 低溫氧等離子體 化學(xué)氣相沉積 石墨烯 拉曼光譜 XPS 原子力顯微鏡

機(jī)構(gòu)： 江蘇大學(xué)機(jī)械工程學(xué)院 中科院傳感技術(shù)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室

摘要： 運(yùn)用低溫氧等離子體對(duì)化學(xué)氣相沉積法生長(zhǎng)的單層石墨烯進(jìn)行處理,通過拉曼光譜儀和X射線光電子能譜儀來表征處理前后的變化,重點(diǎn)探討了低溫氧等離子體處理對(duì)單層石墨烯微觀結(jié)構(gòu)的影響。在拉曼光譜中,處理后的石墨烯出現(xiàn)了明顯的D峰和D′峰,同時(shí)G峰和2D峰也出現(xiàn)了明顯的退化,而G峰峰位右移,2D峰峰位左移。通過X射線光電子能譜表征,表明處理后向石墨烯中引入了較多的官能團(tuán)。利用原子力顯微鏡研究了處理前后SiO2/Si基底上石墨烯的表面形貌,發(fā)現(xiàn)低溫氧等離子體處理后石墨烯表面高度明顯增加,同時(shí)褶皺減少。