SiO2在納米復(fù)合電鍍中的應(yīng)用

編號(hào)：TLHY00212

篇名：SiO2在納米復(fù)合電鍍中的應(yīng)用

作者：劉委明[1,2] ;陳國貴[2] ;王從敏[1] ;徐友撐[2] ;鄭崇統(tǒng)[2]

關(guān)鍵詞： 二氧化硅 納米復(fù)合電鍍 應(yīng)用

機(jī)構(gòu)： [1]浙江大學(xué)化學(xué)系,浙江杭州310027; [2]浙江偉星實(shí)業(yè)發(fā)展股份有限公司,浙江臨海317000

摘要： 采用納米復(fù)合電鍍技術(shù)制備的納米Si O2復(fù)合鍍層擁有一系列優(yōu)異性能,如耐磨、高硬度、耐高溫、抗氧化和耐腐蝕等。介紹了納米復(fù)合電鍍的特點(diǎn)和強(qiáng)化機(jī)制,以及納米Si O2顆粒的分散方法,重點(diǎn)綜述了納米Si O2在復(fù)合電鍍中的研究狀況及應(yīng)用。