低比表面積納米二氧化硅的制備研究

編號：NMJS05879

篇名：低比表面積納米二氧化硅的制備研究

作者：沈俊[1] ;趙燕[2]

關鍵詞：納米二氧化硅 低比表面積 乙硅烷 乙硅氧烷

機構(gòu)： [1]寧夏勝藍化工環(huán)�？萍加邢薰�司,寧夏石嘴山753200; [2]寧波大學建筑工程與環(huán)境學院,浙江寧波315211

摘要： 以含有Si-O-Si鍵及si—Si鍵的物質(zhì)為原料，采用氣相法制備低比表面積納米二氧化硅�？疾觳煌�分子結(jié)構(gòu)對最終樣品粒度、比表面積的影響。采用低溫氮吸附、納米粒度測試等手段對樣品進行了表征。結(jié)果表明，si-O-si形式的分子結(jié)構(gòu)更有利于形成低比表面積的納米二氧化硅，分子中取代基團對樣品孔特性及粒度也有明顯影響。