熱處理對CuO納米線生長的影響

編號：NMJS05806

篇名：熱處理對CuO納米線生長的影響

作者：謝立林[1] ;趙慧[1] ;張曉娜[1] ;汪友[1] ;張澤[2]

關(guān)鍵詞：氧化銅納米線 熱氧化法 生長 擴(kuò)散

機(jī)構(gòu)： [1]北京工業(yè)大學(xué)固體微結(jié)構(gòu)與性能研究所,北京100124; [2]浙江大學(xué)電子顯微鏡中心,硅材料國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,材料科學(xué)與工程學(xué)院,浙江杭州310027

摘要： 本文通過熱氧化法制備了CuO納米線,利用X射線衍射和掃描電子顯微鏡,研究了溫度和冷卻方式對CuO納米線生長的影響。600℃空冷樣品只長出了少量CuO納米線,600℃爐冷樣品上觀察到了大量CuO納米線,400℃空冷樣品上也生長了大量CuO納米線,表明CuO納米線的實(shí)際生長溫度不高于400℃。溫度比較高時(shí),以CuO層的生長為主;在溫度比較低時(shí),以CuO納米線的生長為主。這一結(jié)果可以通過銅離子在氧化層中的擴(kuò)散過程來理解。