多壁碳納米管表面甘草酸分子印跡聚合物的制備及其應(yīng)用

編號(hào)：CPJS04583

篇名：多壁碳納米管表面甘草酸分子印跡聚合物的制備及其應(yīng)用

作者：熱薩萊提·伊敏 ;艾力江·吐?tīng)柕?;熱娜古麗·阿不都熱合曼 ;古麗巴哈爾·達(dá)吾提

關(guān)鍵詞：多壁碳納米管 甘草酸 分子印跡聚合物 吸附率

機(jī)構(gòu)： 喀什大學(xué)化學(xué)與環(huán)境科學(xué)學(xué)院,新疆特色藥食用植物資源化學(xué)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,新疆喀什844000

摘要： 目的：研制甘草酸為模板的固相萃取柱,并將其應(yīng)用到藥草中高純度甘草酸的分離富集方面。方法：以丙烯酰胺修飾的碳納米管為載體,甘草酸為模板,丙烯酰胺為功能單體,乙二醇二甲基丙烯酸酯（EGDMA）為交聯(lián)劑,N,N-二甲基甲酰胺（DMF）為致孔劑,采用沉淀聚合技術(shù),在碳納米管表面成功接枝甘草酸印跡聚合材料。采用紅外光譜、掃描電鏡和熱重分析對(duì)印跡材料的性能進(jìn)行表征。結(jié)果：當(dāng)功能單體為丙烯酰胺,沉淀聚合溫度為60℃,致孔劑是DMF,EGDMA與溶劑比例為1∶20時(shí),能夠在在碳納米管表面印跡一層穩(wěn)定、均勻的印跡材料;Scatchard模型表明,多壁碳納米管-分子印跡聚合物（MWCNTs-MIP）對(duì)甘草酸有著不同親和力的2種結(jié)合位點(diǎn),即高結(jié)合位點(diǎn)的平衡常數(shù)（Kd）1.17 mmol·L-1,最大表觀吸附量（Qmax）741.5μg·g-1,低結(jié)合點(diǎn)的Kd 3.96 mmol·L-1,Qmax1 668.5μg·g-1,并且MWCNTs-MIP對(duì)甘草酸有特異性識(shí)別能力。結(jié)論：優(yōu)化條件合成的分子印跡聚合物具有更好的形態(tài)結(jié)構(gòu),對(duì)目標(biāo)分子具有很好的吸附效率,故作為固相萃取材料應(yīng)用于藥草中甘草酸的分離富集方面有一定研究?jī)r(jià)值。