鐵鎳鉬軟磁合金粉體氣相沉積絕緣包覆工藝研究

編號(hào)：FTJS06552

篇名：鐵鎳鉬軟磁合金粉體氣相沉積絕緣包覆工藝研究

作者：周炳賢[1] ;郭春生[1] ;劉波[1] ;王學(xué)釗[1] ;汪小明[1] ;饒汝聰[1,2]

關(guān)鍵詞：軟磁合金 磁損耗 絕緣包覆 氣相擴(kuò)散沉積 金屬硅 二氧化硅

機(jī)構(gòu)： [1]廣州新萊福磁電有限公司,廣東廣州510000; [2]蘭州大學(xué)物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院,甘肅蘭州730000

摘要： 從減小鐵鎳鉬軟磁合金器件的渦流損耗和磁滯損耗出發(fā)，解決傳統(tǒng)包覆工藝存在的不足，提出將金屬硅粉先經(jīng)氯化生成三氯氫硅擴(kuò)散沉積到粉體表面，再水解出二氧化硅并沉積在磁粉表面的方法制得絕緣包覆磁粉。此外，加入氧化鈣與二氧化硅在1200℃下反應(yīng)生成硅酸鈣來(lái)增加絕緣層的粘結(jié)力。結(jié)合SEM、XRD及EDS分析磁粉表面形貌及成分組成，采用LCR電橋測(cè)試磁粉芯磁性能。研究發(fā)現(xiàn)，該工藝制備出的絕緣膜層具有高粘結(jié)性、高電阻及耐高溫的性質(zhì)，顯著降低了磁粉芯在1MHz頻率下的磁損耗。