具有穩(wěn)定顯氣孔率和滲透通量的氧化鋁膜基片制備工藝優(yōu)化

編號：CPJS03960

篇名：具有穩(wěn)定顯氣孔率和滲透通量的氧化鋁膜基片制備工藝優(yōu)化

作者：丁文秀[1] ;周健兒[1] ;胡學兵[1] ;汪永清[1] ;巫春榮[1]

關鍵詞：膜基片 干壓成型法 制備工藝 顯氣孔率 滲透通量

機構： [1]景德鎮(zhèn)陶瓷學院、江西省高等學校無機膜重點實驗室,江西景德鎮(zhèn)333001

摘要： 氧化鋁膜基片是制備具有高性能,如高分離效率、高離子截留率的改性膜的重要基礎,而氧化鋁膜基片的顯氣孔率和滲透通量對改性膜的上述性能具有重要的影響。因此,要得到高性能的改性膜,則須選用顯氣孔率和滲透通量穩(wěn)定的氧化鋁膜基片。本實驗采用平均粒徑為1.6μm的α-Al2O3微粒為主要原料,以聚乙烯醇為添加劑,采用干壓成型法,制備了氧化鋁膜基片。實驗考察了成型壓力、燒成溫度和PVA用量等參數(shù)對氧化鋁膜基片顯氣孔率和滲透通量的影響規(guī)律,并對其孔徑和顯微結構進行測試分析。實驗結果表明：當成型壓力為10 MPa、燒成溫度為1230℃、PVA用量為0.83wt.%時,可制得顯氣孔率穩(wěn)定在42%、滲透通量穩(wěn)定在215 l·m-2·h-1·bar-1、中位孔徑約為380 nm、顯微結構較均一的氧化鋁膜基片,從而為后期制備高性能的改性膜提供了工藝基礎。