CTAB-乙烯基修飾合成二氧化硅膜及CH4/CO2的分離

編號：FTJS05826

篇名：CTAB-乙烯基修飾合成二氧化硅膜及CH4/CO2的分離

作者：張志剛[1] ;鄭立嬌[1] ;李丹丹[1] ;李文秀[1]

關(guān)鍵詞：溶膠修飾 模板劑 氣體分離

機(jī)構(gòu)： [1]沈陽化工大學(xué)遼寧省化工分離技術(shù)重點實驗室,遼寧沈陽110142

摘要： 以乙烯基三乙氧基硅烷（A-151）和正硅酸乙酯（TEOS）為前驅(qū)體,十六烷基三甲基溴化銨（CTAB）為有機(jī)模板劑,在酸性條件下通過溶膠-凝膠法制備疏水性SiO2膜,采用IR、XRD、SEM等對膜材料進(jìn)行表征,并通過激光粒度分析儀對不同醇酯比的溶膠粒徑分布進(jìn)行測試.結(jié)果表明：疏水基團(tuán)已成功修飾到SiO2材料中,加入一定量CTAB后,膜材料具有良好的CH4、CO2氣體滲透性能,壓差20 kPa時,CH4/CO2氣體的分離因子接近2.27,高于Knudsen擴(kuò)散理想分離因子1.66,表明膜材料具有一定的分子篩效應(yīng).