CdS/SiO2納米復(fù)合材料的合成及光學(xué)性能

編號：CPJS03860

篇名：CdS/SiO2納米復(fù)合材料的合成及光學(xué)性能

作者：徐林煦[1] ;崔放[1] ;汪浩[1] ;姚同杰[1] ;崔鐵鈺[1]

關(guān)鍵詞：氨基酸 硫化鎘 二氧化硅 納米復(fù)合材料 熒光性能

機構(gòu)： [1]哈爾濱工業(yè)大學(xué)基礎(chǔ)與交叉科學(xué)研究院,哈爾濱150080

摘要： 以合成的丙氨酸鎘為納米粒子的前驅(qū)體，在不加酸或堿性催化劑的條件下，利用丙氨酸鎘分子中的胺基催化硅氧烷水解縮合生成二氧化硅，同時將丙氨酸鎘均勻地引入到二氧化硅的內(nèi)部，通過硫化原位生成硫化鎘納米顆粒，制得硫化鎘/二氧化硅（ CdS/SiO2）納米復(fù)合材料。用傅里葉變換紅外光譜、核磁共振氫譜、紫外-可見光譜、熒光顯微鏡和透射電子顯微鏡等方法對CdS/SiO2復(fù)合材料進行表征，結(jié)果表明，硫化鎘粒子均勻分布在二氧化硅內(nèi)部，使其具有良好的熒光特性。