基于氧化鋁模板原位制備Ni/Al-LDHs薄膜的工藝及性能研究

編號：CPJS03743

篇名：基于氧化鋁模板原位制備Ni/Al-LDHs薄膜的工藝及性能研究

作者：杜寶中 ;楊渝 ;楊國農 ;荊媛媛 ;張青

關鍵詞：Al片 電化學陽極氧化 原位合成 水滑石薄膜 插層薄膜

機構： 西安理工大學應用化學系

摘要： 采用電化學陽極氧化鋁模板提供Al^3＋ ,在Ni（NO3）2 和NH4NO3溶液中采用原位生長法制備了Ni/Al-NO3-LDHs薄膜,在弱酸性條件下通過離子交換將磺基水楊酸陰離子引入Ni/Al-NO3-LDHs薄膜層間,制備了磺基水楊酸/LDHs復合薄膜,優(yōu)化了工藝條件,并借助XRD、FT-IR、SEM 等手段對薄膜進行了結構和形貌分析.結果表明,磺基水楊酸陰離子成功插層于LDHs薄膜層間,層間距由0.883nm 增大為1.153nm,NO3- 離子在1384cm^-1 的特征峰基本消失,同時出現(xiàn)了磺基水楊酸的特征峰.SEM 照片顯示,LDHs晶片垂直于Al基底生長. 電化學腐蝕和UVGVis分析表明,LDHs薄膜具有良好的耐蝕性和優(yōu)異的紫外阻隔性能.