銅鎳合金催化制備大面積均勻的少層石墨烯

編號：NMJS05495

篇名：銅鎳合金催化制備大面積均勻的少層石墨烯

作者：劉平； 龍明生； 李銘；

關鍵詞：石墨烯； 化學氣相沉積； 銅鎳合金； 層數(shù)可控；

機構： 華南師范大學物理與電信工程學院物理系廣東省量子調(diào)控工程與材料重點實驗室； 中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所；

摘要： 少層(1~5層)大面積均勻石墨烯的可控制備,是實現(xiàn)石墨烯在邏輯器件和透明導電電極中使用的關鍵。本工作使用常壓化學氣相沉積(CVD)方法,在銅鎳合金基底上生長出少數(shù)層大面積均勻石墨烯。通過調(diào)節(jié)銅鎳合金的厚度以及控制生長過程中的溫度、時間、碳源濃度,本工作實現(xiàn)了層數(shù)可控石墨烯的制備。光學顯微術、拉曼光譜、紫外可見吸收光譜、高分辨率透射電鏡表征結果表明:制備出的石墨烯是大面積均勻的高質量少層石墨烯。