二氧化硅抗結(jié)焦涂層的制備及性能研究

編號：CPJS03620

篇名：二氧化硅抗結(jié)焦涂層的制備及性能研究

作者：宋立臣； 郟景��；

關鍵詞：化學氣相沉積； 二氧化硅涂層； 抑制結(jié)焦； 裂解； 乙烯；

機構(gòu)： 中國石化北京燕山分公司； 中國石化北京化工研究院；

摘要： 在裂解小試裝置中,采用化學氣相沉積法在裂解爐管的內(nèi)壁沉積了二氧化硅抗結(jié)焦涂層,通過EDS和SEM等方法研究了二氧化硅涂層在裂解管內(nèi)的分布規(guī)律,通過裂解結(jié)焦評價實驗考察了二氧化硅涂層的抑制結(jié)焦性能。表征結(jié)果顯示,在裂解爐管中間區(qū)域可以得到較好的二氧化硅涂層,但在裂解爐管的入口和出口處二氧化硅沉積較少,涂覆效果較差。實驗結(jié)果表明,所制備的二氧化硅涂層在850℃的裂解溫度下具有很好的抑制結(jié)焦效果,但經(jīng)1 000℃蒸汽高溫熱沖擊2 h后,抑制結(jié)焦效果急劇下降;所制備的二氧化硅涂層對裂解產(chǎn)物中乙烯、丙烯和丁二烯的收率影響不明顯。