碳材料表面沉積硅化物的研究

編號：CPJS03593

篇名：碳材料表面沉積硅化物的研究

作者：唐建新； 高軍； 王重海； 張銘霞； 杜斌； 李傳山；

關(guān)鍵詞：碳材料； 涂層； 化學(xué)液相沉積； 硅化物；

機(jī)構(gòu)： 山東理工大學(xué)； 山東工業(yè)陶瓷研究設(shè)計(jì)院有限公司；

摘要： 采用化學(xué)液相沉積工藝(RCLD),在碳材料表面快速附著一層結(jié)合緊密、致密均勻的硅化物涂層,研究了不同直徑的預(yù)制體表面處理以及電壓和電流等對碳材料外部硅化物層結(jié)構(gòu)和性能的影響。結(jié)果表明,經(jīng)王水腐蝕的石墨表面粗糙化,有利于沉積層的生成和附著;預(yù)制體的直徑為7mm、電壓為52V、電流為60A時(shí)的抗氧化沉積層具有較好的性能。