電場(chǎng)作用下納米顆粒與豎直壁面碰撞效率的研究

編號(hào)：NMJS05300

篇名：電場(chǎng)作用下納米顆粒與豎直壁面碰撞效率的研究

作者：盛冰瑩； 張凱； 秘曉靜； 嚴(yán)微微；

關(guān)鍵詞：顆粒； 凝并； 壁面排斥力； 碰撞效率；

機(jī)構(gòu)： (中國(guó)計(jì)量學(xué)院流體工程與仿真研究所； 杭州； 310018)；

摘要： 本文著重考慮電場(chǎng)作用下，壁面排斥力對(duì)顆粒—壁面碰撞效率的影響。采用 matlab 中的龍格庫(kù)塔方法，對(duì)顆粒—壁面碰撞的壓縮階段及回彈階段的動(dòng)力學(xué)方程組進(jìn)行求解，并對(duì) Maxwell 速度分布進(jìn)行積分獲得不同速度方向下的碰撞效率。研究表明，顆粒的碰撞效率隨著碰撞角度的增加而增大，并最終達(dá)到一個(gè)臨界值，即完全凝并時(shí)的碰撞效率；且顆粒的碰撞效率將因壁面排斥力的影響而減小，即壁面排斥力在一定程度上阻礙了顆粒的凝并。