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            Au誘導(dǎo)形成有序Si納米孔陣列及其應(yīng)用

            編號:NMJS05142

            篇名:Au誘導(dǎo)形成有序Si納米孔陣列及其應(yīng)用

            作者:王海澎; 柯少穎; 楊杰; 王茺; 楊宇;

            關(guān)鍵詞:Au誘導(dǎo); 聚苯乙烯小球; Si納米孔; Ge/Si納米陣列;

            機構(gòu): 云南大學(xué)光電信息材料研究所;

            摘要: 以自組裝聚苯乙烯小球(PS)單層膜為掩膜,利用Au對Si表面的催化氧化作用以及KOH溶液對單晶Si的各向異性腐蝕特性,在Si(100)面上制備了一系列尺寸小于100 nm有序可控的Si納米孔陣列.掃描電鏡(SEM)和原子力顯微鏡(AFM)等的測試結(jié)果顯示:當PS小球溶液與甲醇溶液的體積比為9:11時,可形成大面積無缺陷的單層膜;但當體積比過大時,會導(dǎo)致類似雙層膜結(jié)構(gòu)的形成;而當體積比過小時,會誘導(dǎo)形成點缺陷和線缺陷.對PS小球及濺射Au處理過的Si晶片進行KOH溶液腐蝕,隨著腐蝕時間變長,納米孔的橫向尺寸和深度增大,其形貌由圓形逐漸變?yōu)榈菇鹱炙?當腐蝕時間超過10 min,納米孔陣列的有序性遭到破壞.采用離子束濺射技術(shù)在倒金字塔型納米孔襯底上獲得了有序Ge/Si納米島,而在圓形納米孔襯底上獲得了有序Ge/Si納米環(huán).進一步對有序Ge/Si納米島及納米環(huán)的形成機理進行了解釋.

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