納米碳化硅拋光液的制備及其對藍寶石晶片拋光性能的研究

編號：NMJS04855

篇名：納米碳化硅拋光液的制備及其對藍寶石晶片拋光性能的研究

作者：熊偉； 儲向峰； 董永平； 張王兵； 葉明富； 孫文起

關鍵詞：SiC； 藍寶石晶片； 化學機械拋光； 分散劑

機構： 安徽工業(yè)大學化學化工學院

摘要： 制備了一種納米SiC拋光液,用透射電鏡觀察其粒子形貌,通過納米粒度儀研究了分散劑種類對懸浮液中SiC的粒徑分布和Zeta電位的影響,并用制備的拋光液對藍寶石晶片進行化學機械拋光。使用原子力顯微鏡觀察藍寶石晶片拋光后的表面形貌。結果表明:SiC磨料在以十六烷基三甲基溴化銨(CTAB)作為分散劑的懸浮液中分散效果最好;在相同試驗條件下,采用質量分數(shù)1%的SiC拋光材料的去除速率最大,為24.0 nm/min,獲得藍寶石晶片表面質量較好,表面粗糙度R a為2.2 nm。