表面處理劑對(duì)CuInS_2納米晶體分散性的影響

編號(hào)：NMJS04830

篇名：表面處理劑對(duì)CuInS_2納米晶體分散性的影響

作者：高延敏； 馮清； 趙琴；

關(guān)鍵詞：CuInS 2納米晶體； 分散性； 表面處理劑；

機(jī)構(gòu)： 江蘇科技大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院；

摘要： 選用表面活性劑聚乙烯醇縮丁醛(PVB)和聚乙烯吡咯烷酮(PVP),以及偶聯(lián)劑KH550、KH570等表面處理劑,來研究體系中添加表面處理劑對(duì)溶劑熱法合成的CuInS2納米晶體分散性的影響.利用X-射線粉末衍射儀、EDS能譜、掃描電鏡(SEM)和紫外-可見近紅外分光光度計(jì)對(duì)納米晶體的結(jié)構(gòu)、原子配比、形貌和光吸收性能等進(jìn)行表征.結(jié)果表明:體系中添加少量(總質(zhì)量的0.1%)表面處理劑制備的CuInS2納米晶體團(tuán)聚現(xiàn)象能得到有效改善,其中偶聯(lián)劑KH570和表面活性劑PVP改性效果佳.